“157nm干式光刻機(jī)受到波長(zhǎng)的限制，制程工藝只能達(dá)到75nm，不如BSEC浸潤(rùn)式光刻機(jī)的65nm，而且在提高制程工藝方面的難度較大，難以滿足晶圓廠家對(duì)先進(jìn)制程工藝的要求；157納米技術(shù)還有一個(gè)先天的困難，由于光波易被吸收，需要氟化鈣鏡頭，氟化鈣是一種新型鏡頭材料，制作難度大，每次結(jié)晶需要3個(gè)月時(shí)間，并且質(zhì)量難以控制，價(jià)格高昂。我建議公司立即開始研發(fā)浸潤(rùn)式光刻機(jī)，雖然同BSEC和GCA相...