沒有多少人知道，由院長鄧光輝院士和所長錢富強(qiáng)研究員率領(lǐng)光源研究所的140多名研發(fā)人員，經(jīng)過近3年的潛心研究，在1999年7月就掌握了浸沒式光刻系統(tǒng)技術(shù)，研發(fā)成功全球第一臺65nm制程工藝的浸沒式光刻機(jī)試驗(yàn)機(jī)，避免刺激美國，秘而不宣，到去年6月17日才公開。
從1999年8月開始立項(xiàng)，BSEC投資1億元，鄧國輝和錢富強(qiáng)帶領(lǐng)光刻機(jī)光源研究所，靜下心來開始研發(fā)EUV的同時(shí)，在65nm制...